Blancos de la farfulla del titanio de la pureza elevada para la máquina de la vacuometalización de PVD

Objetivos de pulverización de titanio de alta pureza para la máquina de recubrimiento al vacío PVD

- ¿ Qué?

Objetivos de pulverización de titanio de alta pureza

Requisitos básicos para los objetivos de pulverización de titanio:

En general, se tendrán en cuenta los siguientes indicadores al medir si el objetivo de pulverización cumple los requisitos principales:

Pureza: La pureza tiene una gran influencia en el rendimiento de la película pulverizada.propiedades eléctricas y ópticas de la película pulverizada.

Contenido de impurezas: las impurezas en el sólido objetivo y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de la película de deposición.Diferentes materiales objetivo tienen requisitos diferentes para su contenido de impurezas.

Densidad: La densidad del blanco no sólo afectará a la velocidad de pulverización, sino que también afectará a las propiedades eléctricas y ópticas de la película.para reducir la porosidad en el sólido objetivo y mejorar el rendimiento de la película pulverizada, el objetivo se requiere generalmente para tener una alta densidad.

Tamaño del grano y distribución del grano: para el mismo objetivo, la velocidad de pulverización del objetivo de grano fino es más rápida que la del objetivo de grano grueso;Cuanto menor sea la diferencia de tamaño de partícula (distribución uniforme), cuanto más uniforme sea el grosor de la película de deposición de pulverización de destino.

Imágenes detalladas:

Embalaje:Cada blanco de titanio está empacado en una bolsa de plástico al vacío personalizada, llena de película de espuma y algodón perla en el medio, y una caja de contrachapado libre de fumigación en el exterior.Cumplir con las normas internacionales de transporte, para garantizar la seguridad del transporte de las mercancías.

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