Gr1 Gr2 Gr5 TiAl aleación de titanio Objetivo de pulverización de titanio

Gr1 Gr2 Gr5 TiAl aleación de titanio Titanio objetivo de pulverización Para revestimiento PVD

- ¿ Qué?1El material objetivo

El material objetivo es el material objetivo bombardeado por partículas cargadas de alta velocidad.de acero inoxidableEn el caso de las películas de aluminio, titanio, níquel, etc., se pueden obtener diferentes sistemas de película (como película de aleación superdura, resistente al desgaste, anticorrosión, etc.).

(1) Objetivos metálicos: objetivo de níquel, objetivo de titanio, Ti, objetivo de zinc, Zn, objetivo de cromo, Cr, objetivo de magnesio, Mg, objetivo de niobio, Nb, objetivo de estaño, Sn, objetivo de aluminio, Al, objetivo de indio,objetivo de hierro, Fe, objetivo de aluminio zirconio, ZrAl, objetivo de aluminio titanio, TiAl, objetivo de zirconio, Zr, objetivo de aluminio silicio, AlSi, objetivo de silicio, Si, objetivo de cobre Cu, objetivo de tántalo T, a,Objetivo de germanio, Ge, objetivo de plata, Ag, objetivo de cobalto, Co, objetivo de oro, Au, objetivo de gadolinio, Gd, objetivo de lantano, La, objetivo de itrio, Y, objetivo de cerio, Ce, objetivo de tungsteno, w, objetivo de acero inoxidable,objetivo de níquel-cromo, NiCr, hafnio Objetivo, Hf, molibdeno objetivo, Mo, hierro-níquel objetivo, FeNi, tungsteno objetivo, W, etc.

(2) Objetivos cerámicos: objetivo ITO, objetivo de óxido de magnesio, objetivo de óxido de hierro, objetivo de nitruro de silicio, objetivo de carburo de silicio, objetivo de nitruro de titanio, objetivo de óxido de cromo, objetivo de óxido de zinc,objetivo de sulfuro de zinc, objetivo de dióxido de silicio, un objetivo de óxido de silicio, objetivo de óxido de cerio, objetivo de dióxido de zirconio, objetivo de pentóxido de niobio, objetivo de dióxido de titanio, objetivo de dióxido de zirconio, objetivo de dióxido de hafnio,Objetivo de diboruro de titanio, blanco de diboruro de circonio, blanco de trióxido de tungsteno, blanco de óxido de aluminio, óxido de tantalio, blanco de pentóxido de niobio, blanco de fluoruro de magnesio, blanco de fluoruro de ytrium, blanco de selenuro de zinc,Objetivo de nitruro de aluminio, blanco de nitruro de silicio, blanco de nitruro de boro, blanco de nitruro de titanio, blanco de carburo de silicio, blanco de niobato de litio, blanco de titanato de praseodimio, blanco de titanato de bario,Objetivo de titanato de lantano, objetivo de óxido de níquel, objetivo de pulverización, etc.

2Los principales requisitos de rendimiento del objetivo

(1) Pureza

La pureza es uno de los principales indicadores de rendimiento del blanco, porque la pureza del blanco tiene una gran influencia en el rendimiento de la película.Los requisitos de pureza de los materiales objetivo también son diferentes.Por ejemplo, con el rápido desarrollo de la industria de la microelectrónica, el tamaño de las obleas de silicio ha crecido de 6", 8" a 12", y el ancho del cableado se ha reducido de 0,5um a 0,25um, 0,25um a 0,25um.18um o incluso 0.13um, la anterior pureza del objetivo de 99,995% puede cumplir con los requisitos técnicos de 0,35umIC, y la preparación de líneas de 0,18um requiere 99,999% o incluso 99,9999% para la pureza del objetivo.

(2) Contenido de impurezas

Las impurezas en el sólido objetivo y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación para la película depositada.Diferentes objetivos tienen diferentes requisitos para diferentes contenidos de impurezasPor ejemplo, los objetivos de aluminio puro y aleación de aluminio utilizados en la industria de semiconductores tienen requisitos especiales para el contenido de metales alcalinos y el contenido de elementos radiactivos.

(3) Densidad

Para reducir los poros en los sólidos del blanco y mejorar el rendimiento de la película pulverizada, generalmente se requiere que el blanco tenga una mayor densidad.La densidad del blanco no sólo afecta la velocidad de pulverizaciónLa densidad de la película es mayor que la densidad de la película, mejor es el rendimiento de la película.El aumento de la densidad y la resistencia del objetivo permite que el objetivo resista mejor el estrés térmico durante la pulverizaciónLa densidad también es uno de los indicadores clave de rendimiento del objetivo.

(4) Tamaño del grano y distribución del grano

El material objetivo es generalmente policristalino, y el tamaño del grano puede ser del orden de micrones a milímetros.la velocidad de pulverización del blanco con granos finos es más rápida que la del blanco con granos gruesos; el espesor de la película depositada por pulverización del blanco con una pequeña diferencia en el tamaño del grano (distribución uniforme) es más uniforme.

3. Material

En el caso de losTitanio puro: GR1 GR2

(2) El Las aleaciones de titanio: titanio Gr5, titanio aluminio TiAl, titanio níquel TiNi, titanio cromo TiCr, titanio zirconio TiZr, titanio cobre TiCu, etc.

(3) ElOtros materiales: objetivos de pulverización de circonio, objetivos de pulverización de cromo, objetivos de pulverización de tungsteno, objetivos de pulverización de cobre, etc.

4Propósito.

Se utiliza ampliamente en recubrimientos decorativos, recubrimientos resistentes al desgaste, CD y VCD en la industria electrónica, así como en varios recubrimientos de discos magnéticos.

Las películas de tungsteno-titanio (W-Ti) y las películas de aleación basadas en tungsteno-titanio (W-Ti) son películas de aleación de alta temperatura con una serie de excelentes propiedades insustituibles.El tungsteno tiene propiedades tales como alto punto de fusiónLa aleación W / Ti tiene un bajo coeficiente de resistencia, buena estabilidad térmica y resistencia a la oxidación.Tal como varios dispositivos requieren cableado metálico que juega un papel conductorSin embargo, el metal de cableado en sí es fácilmente oxidado, reacciona con el medio ambiente circundante,y tiene una baja adhesión a la capa dieléctricaEs fácil de difundir en los materiales de sustrato de dispositivos como Si y SiO2, y formará metal y Si a una temperatura más baja.degradar en gran medida el rendimiento del dispositivoLa aleación W-Ti es fácil de usar como barrera de difusión de cableado debido a sus propiedades termomecánicas estables, baja movilidad de electrones, alta resistencia a la corrosión y estabilidad química.especialmente adecuado para su uso en ambientes de alta corriente y alta temperatura .

Imágenes detalladas

Fabricación

Embalaje y entrega:

Envuelva el material objetivo con algodón de perla y póngalo en una caja de madera.y también puede prevenir el impacto de los bienes externos en el producto, y garantizar que el producto se entrega después de la entrega integridad.

- ¿Qué quieres decir?El embalaje sellado, luego poner en la caja de cartón o caja de madera contrachapada estándar estándar.

- - - - - - - - - - - - - - - - - -Usando cartón exclusivo personalizado con el logotipo del cliente, cada embalaje individual, para ayudar a los compradores a dirigir las ventas.

---Aceptar las exigencias del cliente

Asegúrese de que cada paquete está hecho a medida para usted.Asegúrese de que cuando reciba la mercancía no esté dañada.