Objetivos de pulverización de metal Gr1 Gr2 Gr5 Titanio pulverización de plata Objetivo de pulverización para la máquina de recubrimiento al vacío PVD

Objetivos de pulverización de metal Gr1 Gr2 Gr5 Titanio pulverización de plata Objetivo de pulverización para la máquina de recubrimiento al vacío PVD

Detalles del producto:

Grado: Grado 1 Grado 2 Grado 5 Titanio, TiAl, TiCr, TiCu, TiSi, Mo, Cr, etc. según las necesidades del cliente

Tamaño: 60/65/70/80/85/90/95/100 ((D)/200/300/400×20/30/32/35/40/42/45/50 ((T) O según las necesidades del cliente

Superficie: superficie brillante

Aplicación: Industria de recubrimientos, industria de recubrimientos al vacío por pulverización

Requisitos químicos:

Nombre del producto: Dispersión de blanco de titanio

Material: Titanio puro: GR1 GR2

Purificación >= 99,6%

Aplicación:hardware, decoración, herramientas, cerámica, golf y otras industrias de recubrimiento.

Dimensión:

Objetivo de pulverización redonda: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 y otros tamaños específicos.

Objetivo de pulverización de tubos: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm y otros tamaños específicos.

Objetivo de pulverización de placas: T6-40 × W60 - 800 × L600 - 2000 mm y otros tamaños específicos.

Podemos personalizar objetivos de aleación en diferentes proporciones de acuerdo con las necesidades del cliente

Los objetivos de pulverización de titanio son materiales esenciales utilizados en varios procesos de fabricación avanzados, particularmente en tecnologías de deposición de películas finas como el pulverización.Estos objetivos se utilizan ampliamente en la producción de revestimientos para una variedad de aplicacionesAquí hay una mirada en profundidad a estos materiales, sus aplicaciones y especificaciones.

1¿Qué es un blanco de Titanio Sputter?

Un objetivo de pulverización es un material utilizado en la deposición de pulverización, un método de deposición de película delgada.un material objetivo es bombardeado por iones energéticos (generalmente de un plasma) que hacen que los átomos sean expulsados (esputados) y depositados en un sustratoLos objetivos de pulverización de titanio se utilizan específicamente para depositar películas de titanio delgadas en una variedad de superficies,proporcionando propiedades beneficiosas como la resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste y mayor durabilidad.

2Tipos de objetivos de pulverización de titanio

Hay varias variaciones de objetivos de pulverización de titanio, cada uno ofreciendo propiedades y aplicaciones únicas:

• Objetivos de los pulverizadores de titanio (Ti):
  Los objetivos de titanio puro (Gr1, Gr2, Gr5) se utilizan ampliamente para depositar películas de titanio.revestimientos duraderos con una excelente resistencia a la corrosión.

• Objetivos de los pulverizadores de titanio-aluminio (TiAl):
  Los objetivos de los pulverizadores TiAl son una combinación de titanio y aluminio.

• Los objetivos de los pulverizadores de titanio-cromo (TiCr):
  Los objetivos de TiCr son útiles para depositar películas que han mejorado la dureza y la resistencia al desgaste.

• Los objetivos de los pulverizadores de titanio-cobre (TiCu):
  Los objetivos de pulverización de TiCu combinan las propiedades del titanio y el cobre.haciendo estos objetivos ideales para la microelectrónica y los transistores de película delgada.

• Los objetivos de los pulverizadores de titanio-silício (TiSi):
  Los objetivos de pulverización de TiSi se utilizan para producir películas con estabilidad térmica específica y resistencia química, comúnmente empleadas en dispositivos semiconductores, componentes microelectrónicos y recubrimientos ópticos.

• Objetivos de los pulverizadores de circonio (Zr):
  Los objetivos de pulverización de zirconio a menudo se utilizan en aplicaciones que requieren una alta resistencia a la corrosión, resistencia a la oxidación y resistencia al desgaste.y revestimientos ópticos.

• Objetivos de los pulverizadores de cromo (Cr):
  Los objetivos de pulverización de Cr se utilizan para depositar recubrimientos duros y resistentes al desgaste y para acabados decorativos en superficies.

• Los objetivos de los pulverizadores de molibdeno (Mo):
  Los objetivos de pulverización de molibdeno proporcionan estabilidad a altas temperaturas y son ideales para aplicaciones en electrónica, fotovoltaica y recubrimientos ópticos.

3. Grados de materiales de los objetivos de titanio Sputter

• Grado 1 (Gr1): Titanio comercialmente puro con excelente resistencia a la corrosión, pero menor resistencia.Adecuado para aplicaciones que requieren una alta resistencia a la corrosión pero que no requieren una alta resistencia mecánica, tales como equipos químicos e implantes médicos.

• Grado 2 (Gr2): El grado de titanio puro más utilizado comercialmente, que ofrece un equilibrio de resistencia y resistencia a la corrosión.

• Grado 5 (Gr5): Conocido como Ti-6Al-4V, esta aleación de titanio combina 6% de aluminio y 4% de vanadio para una mayor resistencia.y revestimientos de alto rendimiento.

4Tamaños comunes de los objetivos de Titanio Sputter

Los objetivos de pulverización de titanio vienen en varios tamaños estándar, dependiendo de la aplicación específica y los requisitos del sistema de deposición.

• Φ100*40 mm
• Φ98*40 mm
• Φ95*45 mm
• Φ90*40 mm
• Φ85*35 mm
• Φ65*40 mm

Además de estos tamaños estándar, los objetivos de pulverización de titanio se pueden personalizar para satisfacer los requisitos específicos del cliente, ya sea en función de dimensiones específicas o composiciones de materiales.

5Requisitos de objetivos

La calidad de un blanco de pulverización afecta significativamente la calidad de la película depositada.

• Alta pureza: es esencial una alta pureza para garantizar que la película depositada esté libre de impurezas, que podrían afectar sus propiedades o rendimiento.

• Granos de cristal uniformes: el objetivo debe tener una estructura cristalina uniforme, lo que es importante para una pulverización constante y la deposición de una película delgada uniforme.

• Buena compacidad: el objetivo debe tener una estructura densa y bien formada para garantizar que la pulverización se produzca de manera uniforme y eficiente.

• Baja contaminación: el objetivo no debe contener impurezas que puedan contaminar el proceso de deposición, lo que es crítico para aplicaciones de alta precisión como semiconductores y nanomateriales.

6Aplicaciones de objetivos de pulverización de titanio

Los objetivos de pulverización de titanio se utilizan en una variedad de procesos de fabricación avanzados.

• Electrónica: Las películas de titanio pulverizadas se utilizan para capas conductoras, películas aislantes y recubrimientos magnéticos en dispositivos electrónicos como teléfonos inteligentes, pantallas y transistores de película delgada.

• Semiconductores: El titanio y sus aleaciones se utilizan en la fabricación de dispositivos semiconductores para interconexiones, condensadores y otros componentes esenciales.

• Aeroespacial: las películas de titanio se aplican a componentes en aplicaciones aeroespaciales y militares, donde son esenciales las altas relaciones resistencia-peso, resistencia a la corrosión y resistencia al desgaste.

• Revestimientos ópticos: los objetivos de pulverización de titanio se utilizan para depositar películas delgadas para recubrimientos ópticos (por ejemplo, películas antirreflectantes, espejos y filtros ópticos).

• Nanomateriales: Las películas de titanio se utilizan en la creación de nanomateriales con propiedades específicas para catálisis, células solares, electrodos de baterías y aplicaciones de nanotubos.

• Dispositivos médicos: las películas de titanio pulverizadas se utilizan en aplicaciones biomédicas, especialmente para crear recubrimientos biocompatibles en implantes e instrumentos quirúrgicos.

Requisitos químicos

El material:

1) Objetivo de aleación de Ti/Al (67:33,50:50 en el%)

2) Objetivo de aleación W/Ti (90:10 wt%),

3) Objetivo de aleación Ni/V (93:7, en peso%)

4) Objetivo de aleación Ni/Cr (80:20, 70:30, en peso%),

5) Objetivo de aleación Al/Cr (70:30,50:50 en el%)

6) Objetivo de aleación Nb/Zr (97:3,90:10 wt%)

7) Objetivo de aleación de Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, en peso%)

8) Objetivo de aleación Zn/Al

9) Objetivo de cromo de alta pureza (99,95%, 99,995%)

10) Objetivo de aleación Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, en%)

11) Objetivo de aleación de Ni/Cu (70:30, 80:20, en peso%)

12) Objetivo de aleación de Al/Nd (98:2wt%)

13) Objetivo de aleación Mo/Nb (90:10, en peso%)

14) Objetivo de aleación de TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% y en%)

15) Objetivo de aleación de CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% y en%)

Conocimiento de los grados de titanio

El titanio se clasifica en varios grados en función de su composición y propiedades.El grado 2 (Gr2) es también comercialmente puro, pero con una resistencia ligeramente mayorEl grado 5 (Gr5), también conocido como Ti-6Al-4V, es una aleación que contiene aluminio y vanadio, ofreciendo relaciones de resistencia/peso superiores.lo que lo hace ideal para aplicaciones que exigen un alto rendimiento bajo tensión.

Las aleaciones de TiAl, que combinan titanio con aluminio, proporcionan una mayor dureza y estabilidad térmica.Esto los hace particularmente valiosos para recubrimientos que requieren una excelente resistencia al desgaste y rendimiento a temperaturas elevadasLas propiedades únicas de estos grados y aleaciones de titanio los convierten en opciones favorables para diversas aplicaciones de PVD.cuando la calidad del recubrimiento incida directamente en el rendimiento del producto final.

El papel de los objetivos de pulverización en el revestimiento PVD

Los objetivos de pulverización son materiales que son bombardeados por partículas cargadas de alta velocidad durante el proceso de revestimiento PVD.Los átomos son expulsados de su superficie y depositados en un sustratoLa elección del material objetivo influye directamente en las propiedades de la película resultante, lo que permite la personalización de los recubrimientos para satisfacer requisitos específicos.Seleccionando diferentes materiales objetivo, como las aleaciones de aluminio, cobre o titanio, los fabricantes pueden producir películas con características variables, incluida la súper dureza, la resistencia al desgaste y las propiedades anticorrosivas.

En el caso de los objetivos de pulverización de titanio, la capacidad de producir películas que muestran una adhesión superior, baja fricción y alta dureza es particularmente beneficiosa.Estas propiedades son cruciales para aplicaciones en industrias como la aeroespacialEn el caso de los materiales de alta calidad, los componentes están sometidos a condiciones extremas y deben mantener su integridad a lo largo del tiempo.Los fabricantes pueden lograr recubrimientos que mejoren el rendimiento y la longevidad de los componentes críticos.

Comprender los objetivos de pulverización

La pulverización es una técnica de deposición utilizada para crear películas delgadas en varios sustratos.que expulsan átomos de la superficie del objetivoEstos átomos expulsados luego se depositan en un sustrato, formando una película delgada.La pulverización es preferida en aplicaciones médicas por su capacidad para producir recubrimientos uniformes con un control preciso sobre el grosor y la composición.

Los objetivos metálicos, incluido el titanio, son particularmente valiosos en el sector médico debido a sus propiedades mecánicas favorables, su resistencia a la corrosión y su biocompatibilidad.se utiliza ampliamente para aplicaciones médicas debido a su relación resistencia-peso y su capacidad para integrarse sin problemas con el tejido humano.

La importancia del titanio en aplicaciones médicas

El titanio es un material excepcional en el campo médico, principalmente debido a su biocompatibilidad.lo que lo hace ideal para implantes a largo plazo como prótesis ortopédicas y accesorios dentalesAdemás, la resistencia a la corrosión del titanio asegura que mantenga su integridad en los ambientes hostiles que a menudo se encuentran dentro del cuerpo humano.

Cuando se utiliza como blanco de pulverización, el titanio se puede personalizar para cumplir con los requisitos específicos de varios dispositivos médicos.estructura del grano, y la compacidad del material objetivo, lo que influye directamente en las propiedades de las películas depositadas.

Aplicaciones de los objetivos de pulverización en la industria médica

Los objetivos de pulverización de titanio personalizados se utilizan en una variedad de aplicaciones médicas, incluidas:

• Implantes ortopédicos: los recubrimientos de titanio mejoran las propiedades superficiales de los dispositivos ortopédicos, mejorando la biocompatibilidad y reduciendo el desgaste.Esto es crucial para los implantes que soportan cargas mecánicas significativas.

• Implantes dentales: los recubrimientos de titanio esputados mejoran la osteointegración de los implantes dentales, promoviendo una mejor unión con el tejido óseo circundante.

• Instrumentos quirúrgicos: los recubrimientos aplicados mediante pulverización pueden mejorar la dureza y la resistencia a la corrosión de las herramientas quirúrgicas,prolongando su vida útil y manteniendo su rendimiento a través de ciclos de esterilización repetidos.

• Sistemas de administración de fármacos: Las técnicas innovadoras de pulverización permiten el desarrollo de películas ultrafinas que pueden facilitar la liberación controlada de fármacos, mejorando la eficacia del tratamiento.

Titanio en usos médicos:

El titanio, especialmente el grado 1 y el grado 2, es muy apreciado en los campos médico y biomédico por su biocompatibilidad, resistencia y características de peso ligero.Se usa comúnmente en dispositivos médicos porque no es dañino para el cuerpo y no es probable que cause reacciones alérgicas..

Principales usos médicos del titanio:

1. Implantes ortopédicos: El titanio se utiliza comúnmente en tornillos óseos, placas, reemplazos articulares e implantes espinales porque imita las propiedades del hueso.
2. Implantes dentales: La biocompatibilidad y la resistencia del titanio lo convierten en una opción perfecta para implantes dentales que requieren una alta durabilidad y resistencia a la corrosión.
3. Instrumentos médicos: debido a su resistencia a la corrosión, las herramientas quirúrgicas, agujas, bisturí y otros instrumentos médicos a menudo están hechos de titanio o aleaciones de titanio.
4. Prótesis: El titanio se utiliza en la producción de prótesis y implantes por su combinación de ligereza y resistencia.
5. Dispositivos cardiovasculares: El titanio se utiliza en la producción de casos de marcapasos, stents y válvulas debido a su naturaleza no reactiva en el cuerpo humano.
6. Revestimientos resistentes al desgaste: los objetivos de pulverización de titanio se pueden utilizar para depositar recubrimientos delgados en dispositivos médicos para mejorar la resistencia al desgaste, reducir la fricción y mejorar la biocompatibilidad.

Grados de titanio:

Conclusión:

Los objetivos de pulverización de aleaciones de titanio, incluidas las aleaciones de TiAl, son materiales versátiles ampliamente utilizados para aplicaciones de recubrimiento en industrias que van desde la industria aeroespacial hasta la electrónica y la biomedicina.Estos materiales proporcionan propiedades excepcionales como la resistencia, resistencia a la corrosión, biocompatibilidad y resistencia al desgaste, por lo que son ideales para aplicaciones exigentes que requieren películas finas duraderas y de alto rendimiento.Cuando se elija un blanco de pulverización de titanio, factores como la composición de la aleación, la pureza y la geometría del objetivo deben considerarse para lograr resultados óptimos en el proceso de pulverización.